본문 바로가기 메뉴 바로가기

Pixel & Image sensor

프로필사진
  • 글쓰기
  • 관리
  • 태그
  • 방명록
  • RSS

Pixel & Image sensor

검색하기 폼
  • 분류 전체보기 (26)
    • 전공 (25)
      • Image sensor (8)
      • 논문 리뷰 (13)
      • 반도체 공정&소자 (2)
      • 전공 연습장 (2)
    • 동기부여 (0)
    • Daily life (1)
  • 방명록

reverse bias (1)
MS junction에서 Energy band와 voltage, doping concentration

좌- semiconductor, 우, metal인 경우에 conduction band와 valance band의 접합으로 energy bnad가 fermi level에 따라서 기울어지거나 휘게된다. 이 때, 중요한 요소는 doping concentration과 voltage이다. 두가지 중에서 doping concentration에 따른E-band를 보면 아래와 같다. 도핑된 반도체는 p-type으로 도핑되었다. 도핑농도가 0일때는 energy band가 기울기만하고 휘지않는다. 따라서 밴드가 휘지않기 때문에 depletion 영역(space charge region)또한 생기지 않는다고 가정할 수 있다. e-16으로 도핑을해주게되면 기울기가 더 심해지기는하나 휘지 않는다. (intrinsic 캐리어 농..

전공/전공 연습장 2024. 1. 14. 18:51
이전 1 다음
이전 다음
공지사항
최근에 올라온 글
최근에 달린 댓글
Total
Today
Yesterday
링크
TAG
  • doping concentration
  • metamaterial
  • ion implantation
  • 1/f noise
  • quad color filter array
  • DB hitek
  • CIS
  • Noise
  • ISOCELL HP2
  • 한국광학회
  • Twisted PD
  • image sensor
  • pxiel
  • 슈퍼 QPD
  • PDAF
  • IISW 2019
  • Tetra^2 픽셀
  • 이온 주입
  • conversion gain
  • Samsung
  • Auto focusing
  • 4t
  • SNR 10
  • signal-to-noise ratio
  • channeling effect
  • pixel
  • reverse bias
  • RTS noise
  • temporal noise
  • Auto-focusing
more
«   2025/10   »
일 월 화 수 목 금 토
1 2 3 4
5 6 7 8 9 10 11
12 13 14 15 16 17 18
19 20 21 22 23 24 25
26 27 28 29 30 31
글 보관함

Blog is powered by Tistory / Designed by Tistory

티스토리툴바